专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多级3D堆叠式封装和其形成方法-CN202180081683.6在审
  • J·C·科斯塔;G·马克西姆;B·斯科特 - QORVO美国公司
  • 2021-12-13 - 2023-08-11 - H01L25/065
  • 每个裸片区段包含基本上不包含硅基板并且具有几微米与几十微米之间的厚度的薄化裸片、模制化合和中间模制化合。在本文中,所述薄化裸片和所述模制化合设置在所述重布结构上方,所述模制化合围绕所述薄化裸片且竖直地延伸超过所述薄化裸片的顶表面以在所述薄化裸片上方且在所述模制化合内限定开口,所述中间模制化合位于所述薄化裸片上方且填充所述内部模制化合内的所述开口,使得所述中间模制化合的顶表面与所述模制化合的顶表面共面。
  • 多级堆叠封装形成方法
  • [发明专利]具有增强性能的晶片级扇出封装-CN201980077328.4在审
  • 乔纳森·哈勒·哈蒙德;朱利奥·C·科斯塔;乔恩·查德威克 - QORVO美国公司
  • 2019-10-09 - 2021-07-23 - H01L21/60
  • 本公开涉及一种晶片级扇出封装,其包含第一经薄化裸片(12T)、第二裸片(14)、所述第一经薄化裸片和所述第二裸片下方的多层重布结构(16)、所述第二裸片上方的第一模制化合(18)、所述多层重布结构上方以及所述第一经薄化裸片和所述第二裸片周围的第二模制化合(20),以及第三模制化合(22)。所述第二模制化合延伸超出所述第一经薄化裸片以界定所述第二模制化合内和所述第一经薄化裸片上方的开口(42),使得所述第一经薄化裸片的顶部表面在所述开口的底部处。所述第一模制化合的顶部表面和所述第二模制化合的顶部表面是共面的。所述第三模制化合填充所述开口且与所述第一经薄化裸片的所述顶部表面接触。
  • 具有增强性能晶片级扇出封装

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